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    项目介绍

    工作原理:将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上。

    样品要求

    1.紫外光波长:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可调

    2. 样品尺寸:6英寸及以下

    3. 分辨率:接触曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm

    4.对准精度:<1μm

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