紫外光刻机_紫外纳米压印光刻-测试狗科研服务

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项目介绍

工作原理：将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上。

样品要求

1.紫外光波长：365nm，曝光能量密度18-20mW/cm2可调

2. 样品尺寸：6英寸及以下

3. 分辨率：接触曝光＜0.5μm，接近式曝光≤1μm

4.对准精度:＜1μm

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