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    氩离子抛光（离子研磨CP）

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    氩离子抛光（离子研磨CP）

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    项目介绍

    氩离子抛光技术/离子研磨CP（Cross section Polisher）用于SEM、EPMA、EBSD等样品的制备。

    依靠离子束轰击制备样品剖面，可以获得表面平滑的样品，观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料，而不会对样品造成机械损害。

    去除损伤层，从而得到高质量样品。

    样品要求

    1.送样前需要对样品进行预处理：样品预磨抛，样品要磨平，样品的上下表面要平行，样品抛光面至少用4000目砂纸磨平，在显微镜下看起来光滑，不粗糙;

    2. 送测样品的尺寸要求:块状样品：以待抛光区域为中心点，样品直径不超过30mm、厚度0~20mm。（超出部分需要磨平）粉末样品：10g以上;

    3. 样品准备2-3片；

    4. 预约时认真填写样品信息以及测试目的，必要时上传参考图片或文件。

    项目案例
    常见问题
    1、何时需要用到氩离子抛光（离子研磨CP）?

    当你需要获得一个无损伤、无假象、能真实反映材料原始结构的高质量平整截面（用于SEM/EBSD等观察）时，得用CP。

    2、离子研磨 vs. FIB：如何选择？

    CP：适合大面积、无损伤截面（如电池极片、LED芯片层析）。FIB：适合微区精准切割（如TEM ），但需后续CP去除镓损伤层。

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    氩离子抛光（离子研磨CP）

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    每单限1次复测机会，单次需小于5个样品; 此外免费复测样品必须为同一样，私人定制、云视频测试不可享受此服务；

    3. 注意事项

    如果由于您自身样品的情况(样品有问题/选错测试条件等)将不可享受此服务；

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    1. 超时全额退

    正常预约同步辐射XAFS测试固定机时且样品正常邮寄至对应测试线站，如无不可抗力影响（停电/掉光/自然灾害/政策影响等），测试超时5个工作日未发数据，全额退款。

    2. 具体细则

    以预约的固定测试机时时间后第一个工作日为起始日期，需满足完成下单、预约机时、按照预定时间送样条件，不满足前述条件的样品不参与此活动（具体时间预约请联系工作人员确认）。

    3. 注意事项

    如果由于您自身样品的情况，如风险测试样、样品不满足测试要求，将不可享受此权益（样品风险及测试等问题可在下单前联系工作人员确认）；非固定测试机时的订单不参与超时全额退，其他测试权益正常（详情可联系工作人员）。

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