激光直写光刻_光刻掩膜制作-测试狗科研服务

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项目介绍

工作原理：根据计算机图形数据文件，对光刻胶等近紫外感光材料进行直写曝光或在其他光刻基板上进行图形化直写。

样品要求

1.LD 固体激光器 405nm±10nm波长

2. 样品尺寸：8英寸及以下,支持规则或不规则形状的基底; 包括 Si、SiN、GaAs、InP、SiC 等透明、半透明、不透明基底

3. 分辨率＞600nm ，采用空间光调制器频闪扫描曝光/ 连续光曝光

4.可支持厚光刻胶曝光、支持二次重复对准曝光。

5.支持文件格式：GDSII、BMP

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