原子层沉积（ALD）技术_薄膜沉积-测试狗科研服务

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原子层沉积技术(ALD)

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项目介绍

原子层沉积 ( ALD)是一种基于化学气相沉积 (CVD) 的高精度薄膜沉积技术，是将物质材料以单原子膜的形式基于化学气相一层一层的沉积在衬底表面的技术。将两种或更多种前体化学品分别包含被沉积材料的不同元素，一次一种地分别引入到衬底表面。每个前体使表面饱和，形成单层材料。

样品要求

样品尺寸：沉积面积为8英寸以下

项目案例

常见问题

1、什么是原子层沉积（ALD）？

原子层沉积 (Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于化学气相沉积 (CVD) 的高精度薄膜沉积技术，是将物质材料以单原子膜的形式基于化学气相一层一层的沉积在衬底表面的技术。将两种或更多种前体化学品分别包含被沉积材料的不同元素，一次一种地分别引入到衬底表面。每个前体使表面饱和，形成单层材料。

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