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X射线光电子能谱(XPS)

X射线光电子能谱(XPS)

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场发射扫描电镜(SEM)

场发射扫描电镜(SEM)

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X射线衍射仪(XRD)

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非磁性、磁性粉末/液体透射电镜(TEM)

非磁性、磁性粉末/液体透射电镜(TEM)

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傅里叶红外光谱仪(FTIR)

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全自动物理吸附仪(BET)

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SEM云现场/现场-成都

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液体核磁共振(NMR)

液体核磁共振(NMR)

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激光共聚焦拉曼光谱仪(Raman)

激光共聚焦拉曼光谱仪(Raman)

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等离子体光谱仪(ICP-OES)

等离子体光谱仪(ICP-OES)

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电子自旋共振波谱仪(ESR/EPR)

电子自旋共振波谱仪(ESR/EPR)

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TEM云现场/现场-成都

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同步热分析仪(TG-DSC)

同步热分析仪(TG-DSC)

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Zeta电位及纳米粒度分析仪(DLS)

Zeta电位及纳米粒度分析仪(DLS)

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热重分析(TG-DTG)

热重分析(TG-DTG)

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激光粒度分析仪

激光粒度分析仪

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紫外可见近红外光谱(UV/VIS/NIR)

紫外可见近红外光谱(UV/VIS/NIR)

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全自动压汞仪(MIP)

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差示扫描量热仪(DSC)

差示扫描量热仪(DSC)

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振动样品磁强计(VSM)

振动样品磁强计(VSM)

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原子力显微镜(AFM)

原子力显微镜(AFM)

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接触角测试(CA)

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常温/高温凝胶色谱(GPC)

常温/高温凝胶色谱(GPC)

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等离子体质谱仪(ICP-MS)

等离子体质谱仪(ICP-MS)

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荧光光谱(PL)

荧光光谱(PL)

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微波网络分析仪/矢量网络分析仪(VNA)

微波网络分析仪/矢量网络分析仪(VNA)

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化学吸附仪(TPD/TPR/TPO)

化学吸附仪(TPD/TPR/TPO)

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X射线荧光光谱(XRF)

X射线荧光光谱(XRF)

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元素分析仪(EA)

元素分析仪(EA)

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超导量子干涉磁测量(SQUID)

超导量子干涉磁测量(SQUID)

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电子万能试验机

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电化学分析

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聚光镜球差透射(AC-STEM)

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紫外光电子能谱(UPS)

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负染色技术

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热重质谱联用仪(TG-MS)

热重质谱联用仪(TG-MS)

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固体/薄膜表面ZETA电位仪

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固体核磁共振仪(SSNMR)

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动态热机械分析仪(DMA)

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离子色谱仪(IC)

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原位红外(in-situ IR)

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质谱仪(MS)

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高级旋转流变仪

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四探针测试仪

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X射线光电子能谱(XPS)-成都

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SEM云现场/现场-北京

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静态二次离子质谱(TOF-SIMS)

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聚焦离子束(FIB)

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总有机碳/总无机碳/总氮/需氧量分析仪(TOC/TIC/TN/COD/BOD)

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霍尔效应测试系统

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纳米压痕/纳米(微米)划痕

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热重红外联用 (TG-IR)

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电导率

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激光导热仪

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椭偏仪

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Hot Disk热常数分析仪

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X射线小角/广角散射仪(SAXS/WAXS)

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电子背散射衍射(EBSD)

电子背散射衍射(EBSD)

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宽频介电常数测试仪

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真密度测试

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离子减薄/电解双喷

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FIB云现场/现场-成都

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生物样本透射电镜(TEM)

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原位XRD

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激光共聚焦显微镜(CLSM)

激光共聚焦显微镜(CLSM)

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单晶衍射(XRD)

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氧氮氢联测仪(ONH分析)

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热膨胀分析仪

热膨胀分析仪

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圆二色光谱仪(CD)

圆二色光谱仪(CD)

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白光三维光学显微镜/3D光学轮廓仪

白光三维光学显微镜/3D光学轮廓仪

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卡尔费休水分测试仪

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AFM-云现场

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表面光电压谱仪(SPV)

表面光电压谱仪(SPV)

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X射线全岩定量分析(XRD)

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摩擦磨损试验机

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硬度测试

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物镜球差透射(AC-TEM)

物镜球差透射(AC-TEM)

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台阶仪

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电子探针显微分析(EPMA)

电子探针显微分析(EPMA)

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冷冻切片

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原位XPS

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热裂解/热脱附气相色谱-质谱联用仪(Py/TD-GC-MS)

热裂解/热脱附气相色谱-质谱联用仪(Py/TD-GC-MS)

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矿物自动分析仪(MLA)

矿物自动分析仪(MLA)

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红外碳硫仪

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铁电压电分析仪

铁电压电分析仪

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生物样SEM

生物样SEM

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基质辅助激光解吸-飞行时间质谱仪(MALDI-TOF-MS)

基质辅助激光解吸-飞行时间质谱仪(MALDI-TOF-MS)

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气体透过率测试仪

气体透过率测试仪

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光催化产氢

光催化产氢

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塞贝克系数与电阻率测试系统

塞贝克系数与电阻率测试系统

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临界氧指数分析仪

临界氧指数分析仪

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静态热机械分析(TMA)

静态热机械分析(TMA)

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掠入射XRD(GIXRD)

掠入射XRD(GIXRD)

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低场核磁共振成像系统(MRI)

低场核磁共振成像系统(MRI)

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高温灼烧/热处理气氛炉

高温灼烧/热处理气氛炉

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锥形量热仪

锥形量热仪

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SEM云现场/现场-武汉

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原子吸收光谱仪(AAS)

原子吸收光谱仪(AAS)

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穆斯堡尔谱仪

穆斯堡尔谱仪

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气相色谱-质谱联用(GC-MS)

气相色谱-质谱联用(GC-MS)

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高效液相色谱-质谱联用(HPLC-MS)

高效液相色谱-质谱联用(HPLC-MS)

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云视频-聚光镜球差透射(AC-STEM)

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折射率测试

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微计算机断层扫描(Micro-CT)

微计算机断层扫描(Micro-CT)

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金相显微镜

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水平垂直燃烧测定仪

水平垂直燃烧测定仪

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动态水分吸附测试仪(DVS)

动态水分吸附测试仪(DVS)

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智能重量分析仪(IGA)

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EBSD-云现场

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偏光显微镜

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全自动氨基酸分析仪

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生物冷冻扫描电镜(Cryo-SEM)

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高效液相色谱(HPLC)

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原位微分电化学质谱仪(DEMS)

原位微分电化学质谱仪(DEMS)

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热模拟实验机(Gleeble)

热模拟实验机(Gleeble)

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极图/宏观织构测试(XRD)

极图/宏观织构测试(XRD)

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真空冷冻干燥机

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飞秒瞬态吸收

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旋转粘度计

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场发射扫描电镜(SEM)-武汉

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凯氏定氮仪

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光催化二氧化碳还原

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原位透射电镜(in-situ TEM)

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煤质分析

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俄歇电子能谱(AES)

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变温荧光光谱(PL)

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显微红外

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单丝强力仪

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高温/低温液体核磁(NMR)

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原位电化学红外

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辉光放电光谱/质谱仪(GD-OES/GD-MS)

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振实/松装密度测定仪

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原位电化学拉曼

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超景深显微镜

超景深显微镜

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红外反射率、透过率、发射率、漫反射测试

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化学滴定

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纳米颗粒跟踪分析仪(NTA)

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雾度测试

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物性综合测量系统(PPMS)

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光电转化效率测试(IPCE)

光电转化效率测试(IPCE)

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动态二次离子质谱仪(D-SIMS)

动态二次离子质谱仪(D-SIMS)

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同步热分析-红外-质谱联用 (TG-IR-MS)

同步热分析-红外-质谱联用 (TG-IR-MS)

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涂层附着力自动划痕仪

涂层附着力自动划痕仪

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气敏性能测试

气敏性能测试

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质构仪

质构仪

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热变形维卡软化点试验机

热变形维卡软化点试验机

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三维X射线显微镜XRM(显微CT)

三维X射线显微镜XRM(显微CT)

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霍普金森杆

霍普金森杆

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同位素

同位素

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全自动电位滴定仪

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工业CT无损探伤类检测

工业CT无损探伤类检测

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电阻率测试仪

电阻率测试仪

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气相色谱(GC)

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行星球磨仪

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冷冻电镜

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拉曼-荧光联用

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水泥水化分析

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击穿电压试验仪

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D33测试(压电常数测试)

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原位扫描电子显微镜(in-situ-SEM)

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高分辨XRD(HRXRD)

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扫描隧道显微镜(STM)

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偏振拉曼测试

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附着力测试

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火花直读光谱仪

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比色仪

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熔融指数

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电子通道衬度成像(ECCI)

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粉体流变仪FT4

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液体密度计

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荧光显微镜(FM)

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电子探针显微分析(EPMA)-云视频

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毛细管流变仪

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阻抗分析仪

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原位电化学电子自旋共振波谱仪(ESR/EPR)

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高温蠕变试验

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微区XRD

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多功能缺陷荧光光谱仪

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正电子湮灭寿命谱仪(PAT)

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放电等离子烧结(SPS)

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灰分测试

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光学显微镜

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氧乙炔烧蚀

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光热偏转谱(PDS)系统PTS-3-PDS

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电液伺服岩石三轴试验机

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液相色谱-电感耦合等离子体质谱(HPLC-ICP-MS)

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老化试验

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和频振动光谱(SFG)

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硫氮氯元素分析仪

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太赫兹时域光谱仪(TDS)

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线切割

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氩离子抛光(离子研磨)

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落锤冲击试验机

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全自动高温高压气体吸附仪

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腐蚀性气体吸附分析仪(BET)

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环境扫描电镜(ESEM)

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重量法磁悬浮吸附系统

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基于捕获阱的慢正电子束谱仪

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泡压法膜孔径分析仪

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多组分竞争吸附仪(穿透曲线分析仪)

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强度调制光电流谱(IMPS)

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原位电化学XRD

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动态法弹性模量测试仪

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脂肪测定仪

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激光诱导击穿光谱仪(LIBS)

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电子鼻

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免疫电镜测试(IEM)

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岩石薄片分析

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温度冲击试验

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专业级3D打印

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门尼粘度计

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高低温高频疲劳试验机

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红外测油仪

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太阳能电池载流子特性分析系统

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FlowCam流式成像颗粒分析系统

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角分辨光电子能谱(ARPES)

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液相色谱-原子荧光联用(HPLC-AFS)

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凝冻强度测试仪(冻力仪)

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超声波探伤仪

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表面活性剂测试

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分散体系分析仪

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半导体光电测试

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原位断层光谱

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折光仪

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太赫兹三维层析成像系统

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圆偏振荧光光谱仪(CPL)

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石英晶体微天平(QCM)

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原位(变温)紫外光谱

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圆柱弯曲试验仪

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推拉力测试机

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电池性能测试

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太阳能电池伏安特性测试仪

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覆压孔渗测量仪

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四球摩擦试验机

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37项抗生素检测

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薄膜热电参数测试系统(MRS)

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量子效率测试

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OC/EC分析仪

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蓝光3D扫描仪

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磁致伸缩系数测量系统

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三维原子探针(APT)

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温度湿度试验系统

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矫顽磁力自动测量仪

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激光闪光光解仪

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泡压法表面张力仪

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加速度试验

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原子荧光光谱仪(AFS)

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飞灰比电阻测定仪

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残余应力

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临界胶束浓度CMC

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剖面密度

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紫外光刻机

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RIE反应离子刻蚀

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漏电起痕仪

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稳定同位素

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激光剥蚀(多接收)等离子体质谱仪 LA-(MC)-ICP-MS

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平面激光干涉仪

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尺寸测量

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常见问题

Q&A

Q:到底是发论文还是申请专利?
A:论文和专利都是技术的载体,论文审稿侧重考察数据是否可靠、结论是否准确,发明专利会经过新颖性或创造性的审查,授权后获得独占权而受到法律保护,自己在先公开的论文会导致在后申请的专利失去新颖性或创造性,对于同一方案务必先申请专利再发表论文。
Q:专利申请为什么要趁早?
A:1.要防止创意或产品推出前被模仿。2.相关技术更新迭代、层出不穷,慢一步就会导致他人先公开自己的创意而无法获得专利权。3.专利可以在升学评奖、职称考核、高企认定等过程中添加砝码,竞争激烈,提早准备更容易命中目标。
Q:哪些不能申请专利?
A:1. 科学发现;3. 疾病的诊断和治疗方法;4. 动物和植物品种;5. 用原子核变换方法获得的物质;6. 对平面印刷品的图案、色彩或者二者的结合作出的主要起标识作用的设计。
Q:发明和实用新型有何区别?
A:1.保护客体不同,发明专利保护产品、方法或者改进所提出的新的技术方案,实用新型专利只保护产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案。2.审批程序不同,发明专利需要经过实质审查以确定满足新颖性、创造性和实用性,审查时间更长,实用新型不需要经过实质审查,创造性和技术水平较发明专利低,但实用价值大。3.保护期限不同,发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权的期限为十年,外观设计专利权的期限为十五年,均自申请日起计算。
Q:什么是技术交底书?
A:技术交底书是发明人和代理师沟通的基础,应当涵盖现有技术的问题是什么,发明人提出了什么样的解决方案,达到了何种效果,以及希望保护的核心技术要点是什么,应当尽可能记录技术内容,充分描述技术细节,提供有力的证明材料,如此才能撰写更高质量的专利。
Q:如何才能更快获得发明专利授权?
A:1.优先审查,涉及特定的高端制造、节能环保、新材料、新能源等特殊领域,可以申请优先审查,最快可在6-8个月获得发明专利授权。2.通过保护中心的预审加快审查,进入快速审查通道,可进一步压缩授权时间。
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