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等离子体聚焦离子束显微镜(PFIB)

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等离子体聚焦离子束显微镜(PFIB)

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如有各类设备采购需求,请联系专属顾问。

黄欢

TEM测试工程师

3年透射电镜(TEM)测试工作经验。专长于常规材料的形貌分析,具备深入观察材料微观结构的能力。

项目介绍

等离子体聚焦离子束(PFIB)使用Xe氙作为离子源,Xe源电流2500nA,在离子材料去除上有更高的速率。双束PFIB配备SEM实时成像,用于1000微米以内大尺寸切片,芯片局部去层可配合Nano Probe由于其离子电流比Ga高38倍,适用于SEM定位大尺寸的切割,芯片热点位置可进行定点去层,大尺寸样品可以边切边观察,便于分析测试,配合Nano Probe、CAFM、EBSD制备,可以解决客户3D防撞TSV定点截面分析、MEMS结构无形截面分析、光芯片光路截面分析、失效孤品去层分析的需求。

样品要求

1. 粉末样品:样品尺寸至少为5μm以上,且无磁性;

2. 薄膜/块体样品:最大尺寸不超过2cm,高度不超过3mm,可以有磁性,但强磁样品应尽可能减小尺寸;

3. 在送样前,请通过扫描电子显微镜(SEM)确认样品满足PFIB制样的要求;

4. 按照样品个数计费加工成品大小一般不超过长度 5μm*深度 5μm;如果样品需要加工更大尺寸,请在下单前联系技术经理进行评估和议价

5. 样品应具有良好的导电性,如果导电性比较差,需要进行喷金或喷碳处理。

项目案例
常见问题
1、FIB可以做什么?

(1)FIB-SEM:FIB制备微纳米级样品截面,进行SEM和能谱测试。感兴趣区域尺度要求200nm-30μm,通常切样面宽度不超过10μm。

(2)FIB-TEM:FIB制备满足透射电镜的 TEM截面样品。样品包括:薄膜、块体样品,微米级颗粒。样品种类:陶瓷、金属等。

2、FIB制样可能引入的杂质?

W、C、Pt和Ga,其中W、C和Pt是为了保护减薄区域,Ga是离子源。如果样品不导电可能喷Au或者喷Pt,从而引入这两种元素。

3、FIB样品为什么需要导电?

样品是在SEM电镜下进行操作,需要清晰地观察到样品的形貌,否则无法精准制样。

4、FIB-TEM的制样流程是 ?

(1)找到目标位置(定位非常重要),表面喷Pt、W或C进行保护目标区域; 

(2)将目标位置前后两侧的样品挖空,剩下目标区域后进行U-cut;

(3)通过纳米机械手将这个薄片取出,将样品焊到铜网上的样品柱上;

(4)减薄到理想厚度后停止。

等离子体聚焦离子束显微镜(PFIB)

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