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    原位XPS(In-Situ XPS)

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    原位XPS(In-Situ XPS)

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    项目介绍

    X光电子能谱法是一种表面分析方法,提供的是样品表面的元素含量与形态,一般,其信息深度约为10nm以内。如果辅以离子刻蚀手段,再利用XPS作为分析方法,则可以实现对样品的深度分析。

    样品要求

    1.预处理尺寸要求:块状/片状/薄膜:长宽厚不超出1 cm × 1 cm × 3 mm(特殊大尺寸xps最高厚度不超过25mm,磁性样品尽量小)(对块状样品或薄膜样品的测试面做好标记);粉末样品大于200目,不少于10mg,量少请用称量纸包好再装到管子里寄送。请勿用手触摸样品表面,会引入污染。制好样后请尽快密封,避免其他物质污染;

    2.送样前样品需充分干燥,否则影响仪器真空度。高分子样品在送样前应进行干燥处理。若含有高挥发性分子等请务必烘烤;

    3.样品含有硫或碘等卤族元素请务必填写或者提前告知,避免污染高真空系统;

    4.样品在超高真空及在X射线、紫外线、电子束或Ar离子束照射下应稳定,不分解、不释放气体。

    项目案例

    XPS全谱

    XPS高分辨分谱

    不同碳化温度下钴/碳纳米纤维复合材料的 XPS 全谱

    Co /CNF-700 的 Co 2p 高分辨图谱

    常见问题
    1、Mg靶与Al靶的区别?

    能量不同,分辨率不同,Mg靶分辨率高,Al靶能量高。

    2、XPS是否任何元素都可以测?

    除H和He以外的元素。

    3、XPS表征的是样品的表面还是体相?

    表面10nm以内。

    4、XPS中,价带谱是什么?

    计算价带位置,及能带中电子态密度随能量的分部,

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