磁控溅射镀膜-测试狗科研服务

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磁控溅射镀膜

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项目介绍

磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。

氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。

磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。

样品要求

下单前确认镀膜条件包括：真空度，保护气体及其流量，工作压力，溅射功率，溅射时间，基板偏置电压等。如果不知道溅射条件，也可以告知溅射镀膜厚度条件实验室按照经验确定。

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