等离子体增强化学气相沉积_半导体薄膜沉积工艺-测试狗科研服务

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等离子体增强化学气相沉积（PECVD）

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项目介绍

等离子体经受激、分解、离解和离化后，这些具有高反应活性的中性物质被吸附到较低温度的衬底表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

样品要求

1、适用于的样品尺寸：43*2英寸、10*4英寸、4*6英寸

2、反应气体：CF4/O2、N2、N2O、SiH4/N2、NH3

3、下电极温度：室温-400℃可调

4、镀膜均匀性：<±3%

5、RF射频源：高频13.56MHz 功率0-300W；低频50-460KHz 功率0-500W

6、干燥固体样品，样品表面干净，无油污。

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