最高享18%加赠+10W算力 预存
{{couponData.name}} ¥{{Math.floor(couponData.money)}} {{couponData.discount}}折 ¥{{couponData.random_min_money | int}}~{{couponData.random_max_money|int}}
{{timeH}}:{{timeM}}:{{timeS}}

{{couponData.name}} ¥{{Math.floor(couponData.money)}} {{couponData.discount}}折 ¥{{couponData.random_min_money | int}}~{{couponData.random_max_money|int}} ({{couponData.min_amount==1?'无门槛':'满'+Math.floor(couponData.min_amount)+'可用'}})

距失效

{{timeH}}

时

{{timeM}}

分

{{timeS}}

秒

Document

当前位置:材料测试 ›  显微成像 › 

AFM-锁相电学成像

99%

满意度

AFM-锁相电学成像

服务保障
数据保密 样品安全保障 免费技术咨询 1对1对接

已 预 约:

9884次

服务周期:

平均3个工作日完成

关联搜索:

立即下单
咨询价格

收藏

项目介绍
基础介绍
技术原理
信噪比最高提升 100 倍 · 自营设备 · Asylum Cypher 主机 + HF2LI 锁相系统

AFM-锁相电学成像是将锁相放大(Lock-in Amplifier)技术 与原子力显微镜电学测量模式相结合的高级表征手段。其基本思路是:对样品施加特定频率的激励信号,把响应信号调制到远离低频漂移与噪声的频段,再由锁相放大器的相敏检测(PSD)在窄带内提取信号的幅值与相位,等效于把噪声带宽从全频段压缩到毫赫兹级。

一个实验室里很常见的情况: 我们拿到一批钙钛矿薄膜,想看不同晶粒之间的表面电势差到底差多少、晶界有没有 ion migration 的痕迹; 做了一片 MoS₂/Au 异质结,想知道界面电荷转移的电势台阶是几毫伏; 测一块全固态电池的 LiPON 隔膜,想找晶界阻抗的分布。 结果发现图像噪点密布,晶界细节糊成一片,明明信号是真的,就是淹没在噪声里。

根本原因是:AFM 悬臂梁的振荡信号幅度本身就在皮米量级,而 AFM 的工作频段(几十 Hz 到几百 kHz) 恰好和整个实验室的背景噪声重叠。常规 AFM 的处理方式是把信号一次性采下来,等效于把整个频段的噪声一起收了进来,这就是为什么弱信号样品测不准。

AFM-锁相电学成像的做法,是先给样品施加一个已知频率的交变激励,让响应信号整体搬到这个频率上,再用锁相放大器的相敏检测(PSD),只在这个频率附近的一个极窄频带里提取信号的幅值和相位。 由于窄带带宽可以压到 83 μHz,等效于把噪声带宽从常规 AFM 的宽带采集(通常为 Hz 到 kHz 量级)压缩到毫赫兹级, 噪声带宽压缩可达五个数量级以上(具体倍数取决于原始采集带宽),这才让弱信号变成可测信号。

本平台实测:在典型弱信号标样条件下,锁相 KPFM 相较常规 KPFM 信噪比最高可提升 100 倍;在 HOPG 标准样品上,信噪比提升为 64 倍 (HOPG 表面电势接近均匀,属于对系统噪声本底要求最高的基准样品)。

本设备由测试狗自营实验室自有采购、自有运营,非外借、非转包。 设备长期由专人操作维护,状态可控、排期稳定;测试过程支持云现场(远程视频查看设备与实验过程) 与现场参观,实验保障看得见。

仪器介绍:这套系统由两台设备组成
Asylum Research Cypher AFM主机
Asylum Research Cypher 全自动快速扫描原子力显微镜 · 牛津仪器
Zurich Instruments HF2LI 50 MHz 锁相放大器
Zurich Instruments HF2LI 50 MHz 双通道锁相放大器 · 苏黎世仪器

注:以上为设备官方产品图。本实验室实拍设备照片与送样流程说明可在下单前向技术经理索取,也支持云现场实时查看设备与实验过程。

AFM 主机 · Asylum Research Cypher
全自动快速扫描原子力显微镜 · 牛津仪器
  • X&Y 扫描范围 30 μm(闭环),平面外 Z 范围 >5 μm
  • XY 传感器噪声 <60 pm,Z 传感器噪声 <50 pm
  • 高度噪声 <15 pm(噪声水平优于市面 AFM 仪器的 50%)
  • 闭环扫描 + GetReal 自动校准,针尖状态不漂
  • 集成 EFM / KPFM / PFM / LFM / MFM / CAFM / sMIM / ESM 等模式
+
锁相放大器 · Zurich Instruments HF2LI
50 MHz 双通道锁相放大器 · 苏黎世仪器
  • 频率范围 DC – 50 MHz,采样率 210 MSa/s(14 bit)
  • 6 个双相解调器,最多 6 个振荡器(MF 选件)
  • 时间常数 1 μs – 500 s,对应等效噪声带宽(ENBW)约 200 kHz – 83 μHz
  • 输入噪声 5 nV/√Hz,动态储备 120 dB
  • 滤波器阶数 1–8 阶,斜率 6–48 dB/Oct
  • 相位分辨率 1 μdeg,频率分辨率 0.7 μHz
我们把它做成了自营实验室的专用通道
自有设备
Cypher 主机与 HF2LI 锁相放大器均为测试狗自营实验室自有采购、自有运营,非外借、非转包。设备状态与可用机时完全可控。
专人操作
由 AFM 方向技术负责人制定参数方案并跟机操作,不依赖第三方排期。锁相参数(时间常数、调制频率、相位校准)由博士团队把关。
数据可溯源
交付原始数据文件 + 形貌/电势双通道图像 + 关键参数记录(τ、fmod、AC 电压、增益),可直接用于 SCI 论文作图。
眼见为实
支持云现场(远程实时查看设备与实验过程)与现场参观,探针下针、参数设定全程可见。
锁相相比常规模式,究竟带来了什么
常规 AM-KPFM(系统内置)与自搭建锁相系统的实测能力对照
空间分辨率 100 nm → 锁相 AM 模式 80 nm;FM / 外差模式可达 30 nm;高 k 阶(k≥2)可达 20 nm
电势对比度准确度 55%(常规)→ 锁相各模式稳定在 98–99%
等效噪声带宽 常规模式受限于系统采样与滤波,采集带宽内噪声累积 → 锁相模式可压缩至 83 μHz – 200 kHz 区间内任意设定
有限尺寸针尖效应
悬臂串扰效应
常规模式下两者导致对比度下降、空间分辨变差;锁相模式下通过相敏检测与频率分离,显著抑制
以上为本平台锁相 AFM 与常规 AM-KPFM 的实测能力对照。
理解锁相为什么能提信噪比,只需要抓住一件事:把信号限制在一个极窄的频带里,而不是在宽带里做平均。 下面这条链路,就是我们从下针到出图的完整过程。
STEP 1
探针逼近与悬臂调谐
探针悬停于样品表面上方约 100 nm,调谐至共振附近。Cypher 的 GetReal™ 可在无接触状态下自动校准悬臂灵敏度和弹性系数,保持针尖干净、不被损坏。
STEP 2
施加 AC 调制电压
在探针上叠加 VAC sin(ωt+φ)。电激励 KPFM 推荐调制频率 10–50 kHz;PFM 需与悬臂接触共振频率匹配。
STEP 3
相敏检测(PSD)
HF2LI 把响应信号与参考信号做乘法运算,频谱搬移到零频附近,再经低通滤波提取。这一步把噪声带宽从全频段压缩到 83 μHz 起。
STEP 4
开尔文反馈闭环
调节 VDC 使静电力 Fω 最小,实现 VDC = VCPD,此时 VDC 成像即为表面电势(CPD)。
STEP 5
锁相模式成像
通过 HF2LI 的 AM/FM/外差/双调制/高阶谐波模式,把被噪声淹没的信号分量单独提取出来,得到稳定可重复的电势数据。
HF2LI 的六个解调器能干什么

常规系统一次只能测一个频率分量,而实际样品表面往往同时存在多个响应: 1ω 分量、2ω 分量、3ω 分量,以及不同调制频率下的对比。 HF2LI 提供 6 个独立双相解调器,每个解调器的时间常数、带宽、滤波器阶数均可分别配置,因此可以:

  • 一图多通道:同一帧扫描中同时输出 1ω(电势)、2ω(真实力)、3ω(离子电导特征频率)等通道
  • 高低阶分离:用高 k 阶(k≥2)模式提取与探针-样品距离强相关的近表面信息,分辨率可达 20 nm
  • DFM 定量:双调制(外差)模式下介电力与调制差双通道输出,可同时测载流子浓度(10¹⁶–10¹⁹ cm⁻³)、电导率(10⁰–10⁴ S·cm⁻¹)、离子电导(10⁻⁷ 至 10⁻³ S·cm⁻¹)
  • 相位校准:调相使 Y 归零,确保信号能量集中在 X 通道,避免读数偏差
对比参考:经典 DFM 空间分辨率 50 nm、信噪比 30;自搭建 DFM(外差)分辨率 30 nm、信噪比 10;双调制(外差)分辨率 30 nm、信噪比 5。分辨率越接近探针尖端有效尺寸,横向平均效应越强,信噪比数值随之下降,可据实选择。
不同锁相模式的分工
测量模式 空间分辨率 对比度准确度 适用场景
AM(ω₁,常规) 100 nm 55% 信号较强的常规 KPFM
AM(ω₂,锁相) 80 nm 99% 弱信号表面电势成像,通用默认模式
FM(1 kHz) 30 nm 98% 需要更高空间分辨率的界面分析
外差(Heterodyne) 30 nm 98% 低信号水平样品,避免假信号
高 k 阶(k≥2) 20 nm 98% 超薄层、近表面效应、原子级结构
双调制(1 kHz / 外差) 30 nm — DFM 介电力 + 调制差,载流子与离子输运
3ω(外差) 30 nm — 介电频谱、离子电导特征频率
实际测量模式由技术经理根据样品信号强度与目标分辨率选择。
案例展示
锁相 vs 常规 · 六个实测案例 · 同一样品、同一区域、同一探针、同一扫描参数

下面六组图像全部为单变量对照:只切换常规 AM-KPFM 系统与锁相 AM-KPFM 这一项,样品、区域、探针、扫描尺寸、色标量程均保持一致,因此图像差异可直接归因于锁相检测本身。

案例 1HOPG 高度定向热解石墨:把不可测的微弱电势变成可测HOPG(高定向热解石墨)· 表面势垒表征基准样品
测试目的:HOPG 的表面电势理论上接近均匀,但常规 KPFM 在微弱信号下只能看到一片模糊的条纹,无法判断层间是否存在可分辨的电势台阶。这是检验系统噪声本底的标准试样品。
表面形貌 Height±6.46 nm
HOPG 高度定向热解石墨:把不可测的微弱电势变成可测 表面形貌
X & Y 方向 5 μm 级
常规 AM-KPFM(ω₁)系统
HOPG 高度定向热解石墨:把不可测的微弱电势变成可测 常规AM-KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
锁相 AM-KPFM(ω₂)
HOPG 高度定向热解石墨:把不可测的微弱电势变成可测 锁相KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
0.28–0.27 V
常规模式 CPD 量程
动态范围仅 10 mV
1.23–0.99 V
锁相模式 CPD 量程
动态范围达 240 mV
24 倍
动态范围提升
同一扫描参数下
锁相模式下 CPD 动态范围可达 240 mV(色标 1.23 至 0.99 V),而常规模式在 10 mV 量程(色标 0.28 至 0.27 V)下信噪比已经明显下降。图中条带对应石墨层间台阶。常规模式下这一台阶被噪声淹没,无法与本底起伏区分;锁相模式下条带边界锐利、连续可追踪,说明层间电势台阶被真实记录下来了,而不是噪声起伏。这张图的价值在于:它证明了系统的本底噪声足够低,后续测弱信号样品时结果才可信。需要说明的是,HOPG 上的 64 倍是信噪比提升(本平台实测),而图中 24 倍指的是动态范围(CPD 量程)提升,两者口径不同、并不矛盾。
案例 2钙钛矿薄膜晶粒:晶界电势差与钝化效果评估钙钛矿太阳能电池薄膜(Perovskite Solar Cell Thin Film)
测试目的:钙钛矿的载流子传输主要沿晶界发生,晶界电势差直接决定器件效率。需要同时拿到晶粒级电势分布与形貌,才能判断某个晶界是不是坏边界。
表面形貌 Height36.1 / −44.8 nm
钙钛矿薄膜晶粒:晶界电势差与钝化效果评估 表面形貌
标尺 500 nm
常规 AM-KPFM(ω₁)系统
SP −162 ~ −198 mV
钙钛矿薄膜晶粒:晶界电势差与钝化效果评估 常规AM-KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
锁相 AM-KPFM(ω₂)
SP −175 ~ −277 mV
钙钛矿薄膜晶粒:晶界电势差与钝化效果评估 锁相KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
36 mV
常规模式动态范围
−162 ~ −198 mV
102 mV
锁相模式动态范围
−175 ~ −277 mV
2.8 倍
动态范围提升
同参数可直接对比
常规模式 36 mV 的动态范围有限,晶粒与晶界的高低对比被压缩在一小段色标内;锁相模式把动态范围扩展到 102 mV,此时晶界轮廓与晶面内电势梯度均清晰可辨。图中常规模式(中图)的晶界几乎消失在噪点里,锁相模式(右图)的晶界呈连续清晰的暗线。实际意义:晶界电势差是评估晶界钝化效果的直接依据,也是判断效率损失到底发生在晶界还是晶面的证据。
案例 3LiPON 固态电解质:低导电样品的弱信号成像LiPON(无聚合物固态电解质)· 80 nm 起伏表面
测试目的:LiPON 室温离子电导率极低,表面电势信号本身就在毫伏级以下,常规 KPFM 在这种样品上几乎无法有效成像。而晶界阻抗分布恰恰是判断固态电池老化机制的关键。
表面形貌 Height±80 nm
LiPON 固态电解质:低导电样品的弱信号成像 表面形貌
形貌起伏较大
常规 AM-KPFM(ω₁)系统
CPD 1.35–1.28 V
LiPON 固态电解质:低导电样品的弱信号成像 常规AM-KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
锁相 AM-KPFM(ω₂)
CPD 1.35–1.28 V
LiPON 固态电解质:低导电样品的弱信号成像 锁相KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
1.35–1.28 V
两种模式
同一量程 70 mV
70 mV
锁相模式动态范围
与常规一致
干净背景
同等量程下
晶粒轮廓更清晰
这是最能说明锁相价值的一组对照:两种模式用的是完全相同的量程(1.35–1.28 V),但常规模式下的表面像被一层密集的颗粒噪声覆盖,晶粒轮廓模糊;锁相模式下噪声基底被显著压低,同量程内晶粒团块的边界变得清晰。换句话说,锁相不是靠拉大量程把噪声一起放大,而是在同一量程下真正降低了本底噪声。实际意义:晶界阻抗、界面稳定性等老化机制分析,第一次有了可用的成像数据。
案例 4MoS₂–Au 二维材料异质结:界面电势差定量MoS₂–Au 异质结(单层/多层 MoS₂ 与金电极接触区)
测试目的:二维材料异质结的界面电势差,是理解层间耦合与电荷转移的核心参数。但单层样品信号极弱,顶刊审稿几乎一定会问界面电荷转移有数据支撑吗。
表面形貌 Height5.97 / −5.44 nm
MoS₂–Au 二维材料异质结:界面电势差定量 表面形貌
标尺 500 nm
常规 AM-KPFM(ω₁)系统
SP −30 ~ −15 mV
MoS₂–Au 二维材料异质结:界面电势差定量 常规AM-KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
锁相 AM-KPFM(ω₂)
SP 24 ~ 12 mV
MoS₂–Au 二维材料异质结:界面电势差定量 锁相KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
15 mV
常规模式电势差
边界弥散
12 mV
锁相模式电势差
轮廓清晰
清晰边界
Au/MoS₂ 界面
噪声基底显著降低
图中左上角标注 Au、右上角标注 MoS₂,交界处即异质界面。常规模式下界面处是一条模糊的渐变过渡带,无法判断界面到底落在哪里;锁相模式下界面收敛为一条清晰的分界线,噪声基底明显降低。两种模式下测得的电势差数值接近(15 mV 与 12 mV),说明不是靠改变测量条件获得的结果,而是同样的物理量被更干净地记录下来。实际意义:界面电势差的定量误差直接决定电荷转移模型的可靠性,这项数据是二维材料器件论文中界面性质章节的关键证据。
案例 5GaN/GaAs 异质结横截面:界面势垒宽度GaN/GaAs 半导体异质结横截面
测试目的:异质结的界面势垒宽度决定了器件的整流特性与击穿电压。截面样品的表面电势分布可以直接读出过渡区宽度,但前提是界面两侧的电势台阶足够锐利。
表面形貌 Height±20 nm
GaN/GaAs 异质结横截面:界面势垒宽度 表面形貌
横截面样品
常规 AM-KPFM(ω₁)系统
SP 500 ~ 200 mV
GaN/GaAs 异质结横截面:界面势垒宽度 常规AM-KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
锁相 AM-KPFM(ω₂)
SP 500 ~ 200 mV
GaN/GaAs 异质结横截面:界面势垒宽度 锁相KPFM
同一区域、同一探针、同一扫描参数
300 mV
两种模式
同一电势量程
弥散过渡
常规模式
层间过渡平缓
锐利界面
锁相模式
层间边界清晰可定
图中左侧标注 GaN、右侧标注 GaAs,交界处即异质结界面。两种模式都在 300 mV 量程(500 至 200 mV)下测量,量程本身已经覆盖了势垒高度;差别在于界面的锐利程度:常规模式下 GaN 到 GaAs 的过渡是一个缓慢的渐变区,界面在哪依赖于人为判断;锁相模式下过渡区被压缩成一条明确的边界,并且在 GaAs 侧额外显现出一处暗色区域(可能对应缺陷或势垒畸变区,需结合其他表征手段确认),这一特征在常规模式里完全看不到。实际意义:势垒宽度的定量误差会直接影响隧穿电流的计算模型,界面缺陷区的识别也关系到器件可靠性评估。
案例 6钙钛矿器件横截面:800 mV 大动态范围 + 相位双通道钙钛矿太阳能电池完整器件横截面(六层结构)
测试目的:器件级研究关心每一层材料(ITO / PTAA / PVK / PCBB-3N-3L / Al-PCBM)之间的能带对齐与界面电势分布。器件表面的电势跨度可达 800 mV 量级,这对系统的动态储备与噪声抑制都是考验。
常规 AM-KPFM(ω₁)系统
SP 800 ~ 0 mV
钙钛矿器件横截面 常规模式
同一区域、同一探针、同一扫描参数
锁相 AM-KPFM(ω₂)
SP 800 ~ 0 mV
钙钛矿器件横截面 锁相模式
同一区域、同一探针、同一扫描参数
锁相 KPFM
Phase:−3.3 ~ 5.3 deg
钙钛矿器件横截面 锁相相位通道
锁相模式同步输出相位通道
800–0 mV
两种模式
同一大动态范围
层结构可辨
六层器件结构
在电势图上逐层对应
Phase
锁相 KPFM
Phase:−3.3 ~ 5.3 deg
图中为钙钛矿太阳能电池完整器件横截面(六层结构),左侧为 Glass / ITO / PTAA / PVK / PCBB‑3N‑3L / Al‑PCBM 叠层。两种模式都在 800–0 mV 量程下测量,量程本身已经覆盖了器件电势跨度;差别在于层间界面的锐利程度:常规模式下部分层间过渡模糊,锁相模式下六层结构在电势图上逐层对应、层间边界清晰可辨。锁相模式还可同步输出一路 Phase:−3.3 ~ 5.3 deg,为界面态与陷阱分布提供独立于电势的第二维度。实际意义:可直接获取多层器件截面能带对齐信息,支撑器件界面机理分析。
更多应用样品

以下样品均有对应的锁相电学成像数据,可直接下单测试:

单/多层 MoS₂ 量子点薄膜(p-QDs / n-QDs 界面) 碳纳米管(管束导电性分布) 钙钛矿薄膜(形貌 + 电势) GaN 基激光器 有机光电探测器 / 有机太阳能电池 全固态锂电池(截面能带) 石墨烯 / MoS₂ 界面态密度
解决方案
钙钛矿太阳能电池
二维材料异质结
固态电解质 / 锂电池
半导体器件与异质结
不导电涂层 / 高分子
低导电弱信号通测
晶粒级电势成像 · 锁相 KPFM + 形貌联测
适用:钙钛矿太阳能电池薄膜 · 掺杂剂钝化效果评估 · 效率差异归因

钙钛矿薄膜晶粒的表面电势分布直接决定载流子传输路径与器件效率。常规 KPFM 在钙钛矿这类弱信号样品上噪声大,晶界细节容易丢失,导致晶界到底有没有被钝化这个问题无法回答。

锁相 KPFM 把噪声带宽压缩至毫赫兹级,晶界、晶面电势差清晰可辨;配合形貌通道联测,同一次实验同时得到形貌与电势两组信息,电势异常可以直接对应到具体的晶粒或晶界位置。

可得结论
  • 晶界电势差定量值:给出各晶粒间电势差的统计分布,而非单点数值
  • 晶界钝化效果判定:对比钝化前后晶界电势差是否收敛,判断钝化剂是否生效
  • 效率差异归因:区分效率损失来自晶面还是晶界,为工艺优化指明方向
  • 失效定位:识别局部电势反转区、针孔、孔洞等缺陷位置
锁相 KPFM 形貌联测 晶粒级电势图谱 缺陷定位
晶粒级电势成像 · 锁相 KPFM + 形貌联测
锁相模式下钙钛矿表面电势分布,晶界轮廓清晰可辨
界面电势差定量表征 · 锁相 KPFM
适用:MoS₂ / WS₂ / 石墨烯异质结 · 层间耦合与电荷转移机制

二维材料异质结的界面电势差,是理解层间耦合与电荷转移的关键参数,也是二维材料器件建模的输入量。但单层/薄层样品信号本身极弱,极易被噪声淹没。

锁相 KPFM 通过相敏检测从窄带提取信号,即使单层样品也能获得稳定、可重复的电势差数据,并且界面位置不再依赖人为判断。

可得结论
  • 界面电势差定量值:Au/MoS₂、MoS₂/WS₂ 等体系的界面电势台阶(典型 10–50 mV 量级)
  • 界面位置与宽度:给出明确的界面分界位置,避免渐变区带来的人为误差
  • 电荷转移方向判定:由电势高低方向判断电子从哪一侧转移到哪一侧
  • 审稿证据:顶刊审稿常问的界面电荷转移是否有数据支撑,由此直接回答
锁相 KPFM 单层/薄层样品 界面电势差定量 电荷转移方向
界面电势差定量表征 · 锁相 KPFM
MoS₂–Au 异质结锁相表面电势,界面分界清晰
低导电样品弱信号增强 · 固态电解质与锂电
适用:LiPON / 卤化物固态电解质 · 全固态锂电池截面 · 老化机制分析

固态电解质室温离子电导率极低,表面电势信号极弱,常规模式几乎无法有效成像。而晶界阻抗、界面稳定性恰恰是判断固态电池老化机制的核心。

锁相模式把信噪比最高提升 100 倍,无需额外制样处理,即可获得表面与界面的电势分布。

可得结论
  • 晶界阻抗分布图:定位高阻抗晶界区域,为界面改性提供目标位置
  • 离子电导特征频率:经 3ω(外差)模式测量介电频谱,得到离子电导(10⁻⁷–10⁻³ S·cm⁻¹)
  • 老化机制判断:对比循环前后截面电势分布,识别界面退化区域
  • 能带结构信息:与充放电仪同步测量,还原充放电过程中的界面能带演化
锁相 KPFM 弱信号增强 DFM 离子电导 老化机制分析
低导电样品弱信号增强 · 固态电解质与锂电
LiPON 固态电解质锁相表面电势,同量程下噪声基底显著降低
半导体器件与异质结界面分析
适用:GaN/GaAs / p-n 结 / 肖特基接触 · 界面态与势垒表征

半导体异质结的界面势垒宽度决定器件整流特性与击穿电压。截面样品表面电势分布可直接读出过渡区宽度与电势台阶高度,这是评估外延质量与界面态密度的直接手段。

锁相模式让层间过渡区从缓慢渐变变成清晰边界,并能显现常规模式下完全看不到的界面畸变区与缺陷。

可得结论
  • 势垒宽度与高度:从电势分布直接读出过渡区宽度与台阶高度
  • 界面缺陷识别:在电势图上定位异常区域,评估外延层界面质量
  • 极性判定:P 型 / N 型 / 金属型导电类型判定(DFM 双调制模式)
  • 载流子浓度定量:10¹⁶–10¹⁹ cm⁻³ 量级,DFM 双调制 / 三调制模式结合模型反推,无需镀金属电极
锁相 KPFM DFM 双调制 势垒宽度定量 载流子浓度
半导体器件与异质结界面分析
GaN/GaAs 异质结锁相表面电势,层间边界锐利可定
免导电处理 · 直接测不导电涂层表面电势
适用:聚合物涂层 · 碳陶瓷复合材料 · 绝缘氧化层 · 高分子薄膜

聚合物等不导电涂层,常规 KPFM 测不了:信号太弱,电荷累积还会导致图像失真。而喷金/镀碳会改变样品本征状态,涂层本身的功函数信息会被掩盖。

锁相 KPFM 对样品导电性要求低,无需喷金、镀碳即可直接成像,样品原样进、原样测。

可得结论
  • 涂层表面电势分布:评估涂层均匀性与缺陷分布
  • 涂层功函数表征:DFM 形貌 + KPFM 功函数联测,分析界面结合状态
  • 无制样干扰:避免喷金引入的颗粒污染与形貌失真,样品可回收
  • 原位状态:反映涂层真实的本征电学性质,而非金属化后的假象
锁相 KPFM 免导电处理 原样进原样测 涂层质量评估
免导电处理 · 直接测不导电涂层表面电势
不导电涂层表面电势成像,无需导电处理
弱信号通测 · 低于 10 mV 电势差仍可分辨
适用:所有低导电性样品 · 有机半导体 · 绝缘层 · 未知失效样品预评估

当样品电势信号低于 10 mV 时,常规 KPFM 基本失效。锁相模式通过相敏检测把等效噪声带宽压缩到 Hz 级甚至 mHz 级,使这类样品重新变得可测。

不确定样品是否适合测?可先联系技术经理做样品预评估,我们会根据样品类型与研究目的判断是否需要锁相模式,以及推荐何种测量模式。

典型可测样品类型
  • 低导电性样品:有机半导体、固态电解质、卤化物钙钛矿
  • 微弱电势差检测:<10 mV 的界面电势差
  • 高分辨率电学成像:256×256 及以上像素下的稳定成像
  • PFM 弱压电信号:压电材料极化分布的弱信号检测
锁相 KPFM SNR 最高 100× mHz 级带宽 样品预评估
弱信号通测 · 低于 10 mV 电势差仍可分辨
HOPG 锁相模式:240 mV 动态范围下的表面电势分布
样品要求

AFM 对样品表面的平整度要求比常规显微测试严格得多,样品制备方式会直接影响数据质量。以下要求请在下单前逐条确认。

尺寸与规格
薄膜与块体样品:尺寸不大于 15 mm(1.5 cm),厚度 0.1‑7 mm之间。务必标明测试面!块状样品需固定牢靠,避免寄送过程中晃动或摩擦影响测试结果。
粉末样品:质量不少于 10 mg,务必备注制样条件,包括分散液、超声时间及配制浓度。
液体样品:体积不小于 1 mL(浓度不确定可加送溶剂空白样,测试前稀释)。同样需备注制样条件。
不导电样品(塑料、聚合材料、高分子材料等):建议使用吸附胶盒、离心管等装样,请不要直接用自封袋装。如必须使用自封袋,请将样品与包装固定牢固,避免运输摩擦产生静电导致样品难测或无法测试。
表面平整度(关键指标)
DFM 表面起伏:≤ 5 μm;粗糙度 Ra 最佳 10 ~ 200 nm。
KPFM 表面起伏:≤ 1 μm;粗糙度 Ra 最佳 10 ~ 200 nm。粉末样品测试很难测到较好结果,下单前请确保风险可接受。
粗糙度为何重要:表面起伏过大,一方面可能超出仪器测试范围,另一方面可能导致跳针、针尖受损或污染,从而影响图像质量、增加损耗成本。常规测试模式一般要求起伏不超过 5 μm,电学等特殊模式要求不超过 1 μm。
测试区域与沟通
明确测试要求:常规 20 × 20 μm 以内的测试区域即可。最好能上传参考形貌图并打印随样品寄出,便于工程师快速定位目标区域。
小区域测试需提前联系:如果测试区域在 1 × 1 μm 以下,需要与技术经理提前沟通,确认探针可达性与测试方案。
可测范围参考:单次扫描建议小于 20 × 20 μm,主机 X & Y 闭环最大扫描范围 30 μm;常用 10×10 μm、20×20 μm;大于 30 μm 区域只能多张图片拼接实现。
粉末制样常用基底
HOPG(高定向石墨) 优点是导电,主要用于导电样品的测试
MICA(云母) 常用基底,提供一个平整平面,适合原子级结构成像
Si-chip(硅片) 常用基底,提供平整平面,可按参考文献或既往测试条件选取
送样前自查清单:① 测试面是否已标明;② 样品是否固定防晃;③ 表面起伏是否在对应模式的要求内; ④ 粉末/液体是否备注了分散液、超声时间、浓度;⑤ 不导电样品是否用胶盒/离心管封装; ⑥ 是否提供了参考形貌图与目标区域说明。 不确定是否适合?下单前联系技术经理做样品预评估,可避免无效送样。
常见问题
Q1、锁相模式和普通 KPFM / PFM 到底有什么区别?

核心区别在于信号提取的方式。普通 KPFM 使用系统内置的信号处理,噪声抑制能力有限,在低导电性或弱信号样品上可能无法获得有效信号。

锁相模式通过外部锁相放大器(HF2LI)进行相敏检测和窄带滤波,只从极窄频带内提取信号的幅值与相位。等效噪声带宽可压缩到 Hz 级甚至 mHz 级,信噪比通常提升 10 ~ 100 倍。

实际测量中,锁相模式还带来两个附带优势:空间分辨率从 100 nm 提升到 80 nm(FM / 外差可达 30 nm,高 k 阶可达 20 nm),电势对比度准确度从 55% 提升到 98–99%。

尤其适合:低导电性样品(有机半导体、固态电解质)、微弱电势差检测(<10 mV)、高分辨率电学成像(256×256 以上)、PFM 中的弱压电信号。

Q2、适合使用锁相 KPFM 的样品类型有哪些?
  • 钙钛矿太阳能电池薄膜:KPFM 测晶粒表面电势分布,DFM 测形貌,评估晶界钝化效果
  • 二维材料异质结(MoS₂ / WS₂ / 石墨烯等):KPFM 测界面电势差,分析层间耦合与电荷转移
  • 碳陶瓷复合材料、不导电涂层:KPFM 测表面电势,无需导电处理
  • 半导体器件截面(p-n 结、异质结等):KPFM 测截面电势分布,读出界面势垒宽度
  • 固态电解质与锂电池:弱信号表面电势,3ω 模式离子电导,辅助老化机制分析
  • 有机电子材料:锁相模式在微弱信号提取上的优势最为突出
  • 催化材料、耐腐蚀涂层:DFM 测形貌,KPFM 测功函数
  • 碳纳米管、量子点薄膜:导电类型(P/N 型)与载流子浓度定量

如果不确定,可联系技术经理进行样品预评估。

Q3、KPFM 需要样品导电吗?不导电样品能测吗?

KPFM 与样品导电性无关。KPFM 通过探针与样品之间的电容耦合测量表面接触电势差(CPD),不需要样品内部形成电流回路。不导电的碳陶瓷复合材料、高分子薄膜、氧化物绝缘层等均可直接送样测试。DFM 形貌模式同样不要求导电。

需要注意区分的是:DFM 的载流子相关测量(载流子浓度、电导率、导电类型判定)在原理上需要导电通路,对样品要求高于 KPFM;具体请在下单前与技术经理确认。

另外,由于 KPFM 不要求导电,一般不建议喷金,金颗粒有一定尺寸,喷金会对形貌产生影响,也可能掩盖样品本征的功函数信息。

Q4、锁相参数(时间常数、AC 电压、调制频率、相位)应该怎么选?

锁相参数需要根据样品信号强度、期望分辨率和扫描速度综合选择,基本原则如下:

参数 选择原则
时间常数 τ 像素停留时间应 ≥ 5τ。建议最大值:256×256 @ 1 Hz → τ ≤ 780 μs;512×512 @ 0.5 Hz → τ ≤ 390 μs。τ 再大将导致图像拖尾。
灵敏度(Sensitivity) 设为信号幅值的 3 ~ 10 倍。先测一段快速预览线,根据信号大小再设定。
相位(Phase) 通过调相使 Y 归零校准。正确的相位校准能确保信号能量集中于 X 通道,否则读数会出现系统性偏差。
调制频率 电激励 KPFM 推荐 10 ~ 50 kHz;PFM 推荐与悬臂接触共振频率匹配。
滤波器阶数 HF2LI 支持 1–8 阶(斜率 6–48 dB/Oct)。高阶滤波器可在不牺牲时间常数的条件下压低噪声,但相位延迟与拖尾需评估。
AC 电压 机械驱动振幅典型 60 mV,针尖电压振幅典型 1 V;参考值:HOPG 测试中解调带宽 150 Hz、反馈增益 1 k、机械驱动频率 113.2 kHz(ω₁)。

具体参数由技术经理根据您的样品与研究目的制定,不需要您自行设定。

Q5、AFM 测试范围最好小于多少?一般能测多大?

建议测试区域小于 20 × 20 μm(常规项目的稳妥范围)。主机 X & Y 闭环扫描范围为 30 μm,单次最大支持 80 × 80 μm。

常用规格:10 × 10 μm、20 × 20 μm、50 × 50 μm。如果测试区域在 1 × 1 μm 以下,需要与技术经理提前联系确认方案。

Q6、AFM 测试数据有几种格式?需要什么软件分析?
数据格式 打开软件 说明
.spm NanoScope Analysis 推荐,功能最全,支持完整的通道查看、剖面与统计
.mdt IA(Image Analysis) 标准格式,兼容性广
.txt / .csv Origin / Excel 原始数据表格,可自行分析与作图

测试完成后我们会提供数据文件。如需深度数据分析(电势分布统计、畴尺寸定量、电流分布图、晶界电势差提取等),可联系工作人员沟通。

Q7、AFM 粉末样品制样的常用基底有哪些?

常用基底有 3 种:

  • HOPG(高定向石墨):优点是导电,主要用于导电样品的测试
  • MICA(云母):提供平整平面,适合原子级结构成像
  • Si-chip(硅片):提供平整平面,可根据参考文献或之前的测试条件选取

送样时请务必备注分散液、超声时间及配制浓度,这些条件直接影响分散效果与最终成像质量。

Q8、为什么 AFM 测试中样品表面粗糙度不能太大?

一般 AFM 测试中,常规形貌等模式要求样品起伏不超过 5 μm,特殊的电学、力学等测试模式要求样品起伏不超过 1 μm。

表面起伏过大,一方面可能超出仪器测试范围,另一方面可能导致跳针、针尖受损或污染,从而影响图像质量、增加损耗成本。此外,起伏过大会显著增加锁相测量的噪声,使弱信号样品的信噪比进一步恶化。

具体到电学模式:DFM 要求表面起伏 ≤ 5 μm(Ra 最佳 10~200 nm);KPFM 要求表面起伏 ≤ 1 μm(Ra 最佳 10~200 nm)。

Q9、对于导电性不佳的样品,是否需要喷金处理?

AFM 的常规测试模式对样品导电性没有要求;KPFM 通过电容耦合测量,同样不要求样品导电。因此一般不建议喷金。

原因是:① 金颗粒有一定尺寸,喷金会对表面形貌产生直接影响,干扰形貌与电势的对应关系;② 喷金会改变样品表面的本征电学状态,使测得的功函数/表面电势失去代表性;③ 对不导电涂层而言,喷金会使结果无法反映涂层真实状态。

锁相 KPFM 的优势正在于免导电处理,样品测完可回收。

Q10、这台设备具体是什么型号?有哪些配套模式?

AFM 主机为 Asylum Research Cypher 全自动快速扫描原子力显微镜(牛津仪器),锁相放大器为 Zurich Instruments HF2LI 50 MHz 双通道锁相放大器(苏黎世仪器)。两台设备均为测试狗自营实验室自有采购、自有运营。

关键指标:X&Y 闭环范围 30 μm、高度噪声 <15 pm、XY 传感器噪声 <60 pm;HF2LI 频率范围 DC – 50 MHz、采样率 210 MSa/s、输入噪声 5 nV/√Hz、动态储备 120 dB、时间常数 1 μs – 500 s、6 个双相解调器。

标配模式包含 Contact、DART PFM、EFM、KPFM、PFM、FM、LFM、MFM、Phase imaging、Force mapping(含 Fast Force Mapping Mode)等;可选装 CAFM、ESM、sMIM、nanoTDDB、STM、AM-FM 黏弹性成像等。详细参数见上方项目介绍板块中的仪器介绍。

Q11、锁相模式相比常规模式,能保证多少倍信噪比提升?

平台给出的指标是最高提升 100 倍(HF2LI 等效噪声带宽可压缩至 mHz 级)。实际提升幅度取决于样品本身:信号越弱、样品导电性越低,提升越明显。

在本页六个实测案例中,可以直接看到不同样品类型下的实际表现:

案例 常规模式表现 锁相模式表现 提升
HOPG CPD 量程 0.28–0.27 V(10 mV) CPD 量程 1.23–0.99 V(240 mV) 动态范围 24 倍
信噪比提升 64 倍
钙钛矿薄膜 SP −162 ~ −198 mV(36 mV) SP −175 ~ −277 mV(102 mV) 2.8 倍
LiPON 1.35–1.28 V,晶界被噪声覆盖 同量程,噪声基底显著降低 背景更干净
MoS₂–Au 界面弥散(15 mV) 界面锐利(12 mV) 边界可定
GaN/GaAs 300 mV 量程下层间过渡平缓 层间边界锐利 + 缺陷区显现 界面可辨
器件横截面 800 mV 大量程下部分层间过渡模糊 同量程下六层结构逐层对应 + Phase 通道 层结构可辨

需要说明的是,锁相不会改变被测物理量本身,它降低的是本底噪声。所以锁相模式下测得的电势差数值与常规模式接近(如 MoS₂–Au 的 15 mV 与 12 mV),区别在于同样的信号被更干净、更可重复地记录下来。

Q12、可以只测形貌,不做电学测试吗?

可以。Cypher 支持纯形貌与力学模式(Contact mode、Tapping mode、Force mapping、AM-FM 黏弹性成像等),无需接入锁相放大器即可测量。

但需要注意样品要求差异:纯形貌/力学模式的样品起伏要求为 ≤ 5 μm,而 KPFM、DFM 等电学模式要求 ≤ 1 μm。若样品起伏较大,建议先做形貌模式确认表面状况,再决定是否进入电学测试。

Q13、样品多久能测完?数据什么时候交付?

常规项目平均 7 个工作日完成。若涉及特殊模式(如原位工况、DFM 频谱、高 k 阶扫描),周期会相应延长,技术经理会在下单前说明。

交付内容:原始数据文件(.spm / .mdt / .csv)+ 形貌与电势双通道图像 + 关键参数记录(时间常数、调制频率、AC 电压、反馈增益)。如需深度数据分析(电势分布统计、畴尺寸定量、晶界电势差提取等),可联系工作人员另行沟通。

Q14、服务有哪些保障?

① 7 天无理由免费复测:订单完成后 7 天内对结果存疑,可申请同条件免费复测。每单限 1 次,单次需小于 5 个样品,且必须为同样品。更换条件或参数不参与复测保障;私人定制、云视频测试不享受此服务。

② 注意事项:若因样品自身问题(样品有问题、选错测试条件等),不享受此服务。建议下单前联系工作人员确认样品风险与测试方案。

③ 数据交付标准:按 SCI 期刊发表规范交付,支持云现场远程查看与现场参观。

项目介绍
案例展示
解决方案
样品要求
常见问题
学术文章

AFM-锁相电学成像

立即下单
安心测服务说明
关闭
7天无理由
7天无理由免费复测
1. 复测保证

如果在订单完成之后7天内对结果存疑,可申请同条件免费复测,更换条件或者参数不能参与免费复测保障服务,全程由专业团队操作,确保结果有效性;

2. 具体细则

每单限1次复测机会,单次需小于5个样品; 此外免费复测样品必须为同一样,私人定制、云视频测试不可享受此服务;

3. 注意事项

如果由于您自身样品的情况(样品有问题/选错测试条件等)将不可享受此服务。

我知道了
超时全额退
关闭
7天无理由
超时全额退服务说明
1. 超时全额退

正常预约同步辐射XAFS测试固定机时且样品正常邮寄至对应测试线站,如无不可抗力影响(停电/掉光/自然灾害/政策影响等),测试超时5个工作日未发数据,全额退款。

2. 具体细则

以预约的固定测试机时时间后第一个工作日为起始日期,需满足完成下单、预约机时、按照预定时间送样条件,不满足前述条件的样品不参与此活动(具体时间预约请联系工作人员确认)。

3. 注意事项

如果由于您自身样品的情况,如风险测试样、样品不满足测试要求,将不可享受此权益(样品风险及测试等问题可在下单前联系工作人员确认);非固定测试机时的订单不参与超时全额退,其他测试权益正常(详情可联系工作人员)。

我知道了
服务保障
关闭

我知道了
+

你好,很高兴为您服务!

发送