离子束刻蚀机（IBE）_材料表面刻蚀加工-测试狗科研服务

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离子束刻蚀机（IBE）

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项目介绍

通过离子束直接对材料进行轰击刻蚀，或通过刻蚀将曝光形成的光刻胶图形转移至金属、介质、半导体晶圆

样品要求

1、适用于的样品尺寸：最大适合晶圆尺寸8英寸

2、离子源为考夫曼离子源

3、极限真空：≤9.0×10-5 Pa

4、刻蚀不均匀性: ≤±5%干燥固体样品，样品表面干净，无油污

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