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X射线光电子能谱（XPS）

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场发射扫描电镜（SEM）

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X射线衍射仪（XRD）

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SEM云现场/现场

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TEM云现场/现场

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傅里叶红外光谱仪（FTIR）

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场发射透射电镜（TEM）

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等离子体光谱仪（ICP-OES）

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全自动物理吸附仪（BET）

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液体核磁共振（NMR）-500M/600M

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激光共聚焦拉曼光谱仪（Raman）

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电子自旋共振波谱仪（ESR/EPR）

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热重分析（TG-DTG）

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同步热分析仪（TG-DSC）

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等离子体质谱仪（ICP-MS）

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紫外可见近红外光谱（UV/VIS/NIR）

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常温/高温凝胶色谱（GPC）

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原子力显微镜（AFM）

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荧光光谱（PL）

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Zeta电位及纳米粒度分析仪（DLS）

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化学吸附仪（TPD/TPR/TPO）

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X射线荧光光谱（XRF）

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元素分析仪（EA）

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激光粒度分析仪

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同步辐射吸收谱（XAFS）

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全自动压汞仪（MIP）

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AFM-云现场

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振动样品磁强计（VSM）

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紫外光电子能谱（UPS）

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接触角测试（CA）

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电子万能试验机

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差示扫描量热仪（DSC）

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FIB云现场/现场

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离子色谱仪（IC）

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微波网络分析仪/矢量网络分析仪（VNA）

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原位红外（in-situ IR）

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负染色技术

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固体核磁共振仪（SSNMR）

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聚光镜球差透射（AC-STEM）

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质谱仪（MS）

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静态二次离子质谱（TOF-SIMS）

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纳米压痕/纳米（微米）划痕

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总有机碳/总无机碳/总氮/需氧量分析仪（TOC/TIC/TN/COD/BOD）

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X射线小角/广角散射仪（SAXS/WAXS）

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聚焦离子束（FIB）

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电化学分析

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超导量子干涉磁测量(SQUID)

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Hot Disk热常数分析仪

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氧氮氢联测仪（ONH分析）

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同步辐射XAFS数据拟合分析

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动态热机械分析仪（DMA）

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高效液相色谱-质谱联用（HPLC-MS）

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高级旋转流变仪

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电子背散射衍射（EBSD）-可云现场选区

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气相色谱-质谱联用（GC-MS）

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单晶衍射（XRD）

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四探针测试仪

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激光导热仪

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生物样本透射电镜（TEM）

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聚光镜球差透射（AC-STEM）-云现场

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激光共聚焦显微镜（CLSM）

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固体/薄膜表面ZETA电位仪

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原位XPS（In-Situ XPS）

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霍尔效应测试系统

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热重质谱联用仪（TG-MS）

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原位XRD

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圆二色光谱仪（CD）

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基质辅助激光解吸-飞行时间质谱仪（MALDI-TOF-MS）

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生物样SEM

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电导率

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白光三维光学显微镜/3D光学轮廓仪

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热重红外联用（TG-IR）

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离子减薄/电解双喷

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高效液相色谱（HPLC）

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掠入射XRD（GIXRD）

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X射线全岩定量分析（XRD）

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真密度测试

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红外碳硫仪

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宽频介电常数测试仪

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热裂解/热脱附气相色谱－质谱联用仪（Py/TD-GC-MS）

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椭偏仪

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冷冻切片

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热膨胀分析仪

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电子探针显微分析（EPMA）

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摩擦磨损试验机

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气相色谱（GC）

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硬度检测

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生物冷冻扫描电镜(Cryo-SEM)

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卡尔费休水分测试仪

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飞秒瞬态吸收（fs-TAS）

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穆斯堡尔谱仪

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同步辐射GIWAXS/GISAXS测试

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原子吸收光谱仪（AAS）

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全自动氨基酸分析仪

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金相显微镜

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表面光电压谱仪（SPV）

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真空冷冻干燥机

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塞贝克系数与电阻率测试系统

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气体透过率测试仪

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微计算机断层扫描(Micro-CT)

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物性综合测量系统（PPMS）

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台阶仪

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矿物自动分析仪（MLA）

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红外反射率、透过率、发射率、漫反射测试

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涂层附着力自动划痕仪

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铁电压电分析仪

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锥形量热仪

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静态热机械分析（TMA）

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低场核磁共振成像系统（MRI）

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光催化产氢

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临界氧指数分析仪

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变温荧光光谱（PL）

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高温灼烧/热处理气氛炉

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原位微分电化学质谱仪（DEMS）

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原位电化学电子自旋共振波谱仪（ESR/EPR）

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原位电化学拉曼

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偏光显微镜

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旋转粘度计

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原位电化学红外

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高温/低温液体核磁（NMR）

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放电等离子烧结（SPS）

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凯氏定氮仪

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折射率测试

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动态水分吸附测试仪（DVS）

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智能重量分析仪（IGA）

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水平垂直燃烧测定仪

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辉光放电质谱/光谱仪（GD-MS/OES）

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原位拉曼

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微区XRD

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未知成分分析

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纳米颗粒跟踪分析仪（NTA）

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煤质分析

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极图/宏观织构测试（XRD）

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同步辐射XRD

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显微红外

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超景深显微镜

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霍普金森杆

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化学滴定

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D33测试(压电常数测试)

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同步热分析-红外-质谱联用（TG-IR-MS）

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电阻率测试仪

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俄歇电子能谱（AES）

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多功能缺陷荧光光谱仪

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高分辨XRD（HRXRD）

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同步辐射全散射PDF

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正电子湮灭寿命谱仪（PAT）

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线切割

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火花直读光谱仪

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振实/松装密度测定仪

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荧光显微镜（FM）

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电子探针显微分析（EPMA）-云视频

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三维X射线显微镜XRM（显微CT）

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行星球磨仪

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全自动电位滴定仪

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泡压法膜孔径分析仪

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原位电化学XRD

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液体核磁共振（NMR）-400M

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氩离子抛光（离子研磨CP）

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原位（变温）紫外光谱

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水泥水化分析

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太赫兹时域光谱仪（TDS）

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热红外成像仪

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热模拟实验机（Gleeble）

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热台偏光显微镜

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全自动高温高压气体吸附仪

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压实密度仪

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和频振动光谱（SFG）

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粉体流变仪FT4

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光催化二氧化碳还原

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热变形维卡软化点试验机

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偏振拉曼测试

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附着力测试

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石英晶体微天平（QCM）

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原位透射电镜（in-situ TEM）

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氧乙炔烧蚀

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高温接触角测试

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光学显微镜

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工业CT无损探伤类检测

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原位扫描电子显微镜（in-situ-SEM）

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电池性能测试

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同位素

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动态二次离子质谱仪（D-SIMS）

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阻抗分析仪

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电子通道衬度成像（ECCI）

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磁控溅射镀膜

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吡啶红外

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液体密度计

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外量子效率（IPCE/EQE）

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残余应力

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摆锤冲击试验机

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单丝强力仪（纤维）

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毛细管流变仪

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同步辐射散射数据处理

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落锤冲击试验机

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击穿电压试验仪

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半导体光电测试

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腐蚀性气体吸附分析仪（BET）

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老化试验

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高温蠕变试验

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稳定同位素

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电子鼻

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单颗粒力学性能测试系统

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比色仪（颜色测定）

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岩石薄片分析

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质构仪

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全自动旋光仪

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多组分竞争吸附仪（穿透曲线分析仪）

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动态法弹性模量测试仪

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纳米红外（AFM-IR）

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电子舌

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雾度测试

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扫描隧道显微镜（STM）

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强度调制光电流谱（IMPS）

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硫氮氯元素分析仪

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圆偏振荧光光谱仪（CPL）

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1000T六面顶压机

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环境扫描电镜（ESEM）

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热刺激电流仪（TSC）

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灰分测试

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脂肪测定仪（粗脂肪含量）

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原位AFM

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盐雾试验

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光学玻璃粘度仪

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熔融指数

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微区XPS

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热等静压（HIP）

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二次谐波（SHG）

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原子荧光光谱仪（AFS）

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位错密度测试

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TEM云现场（强磁）

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电液伺服岩石三轴试验机

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显微熔点仪

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折光率测试

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比热容（DSC蓝宝石法）

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灰熔点测定仪

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同步辐射小角散射SAXS

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覆压孔渗测量仪

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红外测油仪

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乌氏粘度计

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气相离子迁移谱联用仪（GC-IMS）

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重量法磁悬浮吸附系统

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高低温高频疲劳试验机

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专业级3D打印

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推拉力测试机

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液相色谱-原子荧光联用（HPLC-AFS）

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全自动高温维氏硬度计

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扫描电化学显微镜（SECM）

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声学性能测试系统（阻抗管）

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免疫电镜测试（IEM）

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温度湿度试验系统

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磁致伸缩系数测量系统

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飞秒瞬态吸收数据分析

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温度冲击试验

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静态摩擦系数试验机

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OC/EC分析仪

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蓝光3D扫描仪

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OLED光电测试系统

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37项抗生素检测

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阴极荧光光谱（SEM-CL）

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固态电解质分析系统

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应力仪

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气候环境试验

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激光剥蚀（多接收)等离子体质谱仪 LA-(MC)-ICP-MS

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薄膜应力测试仪

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颗粒形貌分析仪

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四球摩擦试验机

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Q&A

Q：到底是发论文还是申请专利？

A：论文和专利都是技术的载体，论文审稿侧重考察数据是否可靠、结论是否准确，发明专利会经过新颖性或创造性的审查，授权后获得独占权而受到法律保护，自己在先公开的论文会导致在后申请的专利失去新颖性或创造性，对于同一方案务必先申请专利再发表论文。

Q：专利申请为什么要趁早？

A：1.要防止创意或产品推出前被模仿。2.相关技术更新迭代、层出不穷，慢一步就会导致他人先公开自己的创意而无法获得专利权。3.专利可以在升学评奖、职称考核、高企认定等过程中添加砝码，竞争激烈，提早准备更容易命中目标。

Q：哪些不能申请专利？

A：1. 科学发现;3. 疾病的诊断和治疗方法;4. 动物和植物品种;5. 用原子核变换方法获得的物质;6. 对平面印刷品的图案、色彩或者二者的结合作出的主要起标识作用的设计。

Q：发明和实用新型有何区别？

A：1.保护客体不同，发明专利保护产品、方法或者改进所提出的新的技术方案，实用新型专利只保护产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案。2.审批程序不同，发明专利需要经过实质审查以确定满足新颖性、创造性和实用性，审查时间更长，实用新型不需要经过实质审查，创造性和技术水平较发明专利低，但实用价值大。3.保护期限不同，发明专利权的期限为二十年，实用新型专利权的期限为十年，外观设计专利权的期限为十五年，均自申请日起计算。

Q：什么是技术交底书？

A：技术交底书是发明人和代理师沟通的基础，应当涵盖现有技术的问题是什么，发明人提出了什么样的解决方案，达到了何种效果，以及希望保护的核心技术要点是什么，应当尽可能记录技术内容，充分描述技术细节，提供有力的证明材料，如此才能撰写更高质量的专利。

Q：如何才能更快获得发明专利授权？

A：1.优先审查，涉及特定的高端制造、节能环保、新材料、新能源等特殊领域，可以申请优先审查，最快可在6-8个月获得发明专利授权。2.通过保护中心的预审加快审查，进入快速审查通道，可进一步压缩授权时间。

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